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稜鏡耦合測試儀測量原理及應用領域
更新時間╃◕✘╃☁:2022-06-13 點選次數╃◕✘╃☁:334
稜鏡耦合測試儀主要用於電解質和聚合物膜的厚度•◕↟◕▩、折射率和波導引數的快速測量☁☁₪·☁,適用於薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料•◕↟◕▩、矽基氧化膜•◕↟◕▩、矽基玻璃膜☁☁₪·☁,在干涉條紋產生的基礎上透過改變角度產生干涉條紋的方法✘▩╃。對於厚膜折射率的測量☁☁₪·☁,單色光被直接照射到被測樣品上☁☁₪·☁,這樣☁☁₪·☁,從薄膜表面反射回來的光的干涉小值就會發生變化☁☁₪·☁,光的入射角也會發生變化✘▩╃。
測量原理╃◕✘╃☁:
待測樣品透過一個空氣作用的耦合探頭與稜鏡基座接觸☁☁₪·☁,在薄膜與稜鏡之間產生一個空氣狹縫✘▩╃。一束鐳射光束照射到稜鏡基座上☁☁₪·☁,通常會在基座上全反射進入光電探測器✘▩╃。在某一些入射角☁☁₪·☁,稱為模式角☁☁₪·☁,光子向下穿過空氣狹縫進入薄膜☁☁₪·☁,進入一種被引導的光傳播模式☁☁₪·☁,使到達探測器的光強度大幅降低✘▩╃。
稜鏡鏡片的厚薄差較大☁☁₪·☁,在焦度計上打點和檢測時需將稜鏡jian端稍抬起☁☁₪·☁,使鏡片的前表面處於水平位置☁☁₪·☁,因為稜鏡鏡片在磨邊裝配過程中✘▩╃。考慮到美觀等因素☁☁₪·☁,尖邊位置往往在厚端的靠外處☁☁₪·☁,也就是說鏡片的外表面比裡面更接近於水平線☁☁₪·☁,因而在鏡片的視軸也更接近於外表面的光軸☁☁₪·☁,而不是裡表面的光軸☁☁₪·☁,所以這個方向的度數應是實際有效距離☁☁₪·☁,也就是說☁☁₪·☁,焦距在這個方向的測量值為實際有效距離✘▩╃。
該儀器可測量薄膜/基底的型別☁☁₪·☁,矽襯底上幾乎任何透明或半透明材料的氧化物•◕↟◕▩、氮化物•◕↟◕▩、介質•◕↟◕▩、聚合物或薄膜✘▩╃。可測量的薄膜/襯底型別╃◕✘╃☁:氧化物•◕↟◕▩、氮化物•◕↟◕▩、介電材料•◕↟◕▩、聚合物•◕↟◕▩、或矽襯底上幾乎任何透明或半透明材料的薄膜✘▩╃。
稜鏡耦合測試儀主要應用領域╃◕✘╃☁:
1•◕↟◕▩、光波導器件;
2•◕↟◕▩、鐳射晶體材料;
3•◕↟◕▩、聚合物材料;
4•◕↟◕▩、顯示技術材料;
5•◕↟◕▩、光/磁儲存材料;
6•◕↟◕▩、光學薄膜✘▩╃。