波前感測器SID4

光束傳輸中的“波前"通常指等相位面的幾何位形·╃，“波前畸變"則指的是該幾何位形與高斯光束波前面型的差異▩☁◕。而波前位相畸變則指在傳輸橫截面上的位相分佈與理想高斯光束截面位相分佈的差異；大多數時候這兩個概念可以等效使用▩☁◕。通常而言·╃，波前位相偏離理想光束會導致發散角變大···、聚焦效能變差···、成像質量變差等▩☁◕。如果準確地知道光在某個截面上的振幅和位相分佈·╃，那麼光在之前···、之後的傳輸特性均嚴格可知·╃，所以在鐳射研究和應用中·╃，對波前位相進行測量是一種完整地評估光束質量的方法；而常規的光斑分佈測量···、發散角測量···、M2 測量則只能給出部分的資訊▩☁◕。

波前位相測試可用如下場合✘•╃：• 鐳射研發製造✘•╃：M2 類測試僅能提示鐳射器的傳輸效能是“好"還是“不好"·╃，而波前位相資訊可反映鐳射束像差成份·╃，從而探究鐳射器光束質量不佳的原因·╃，為最佳化和調整指明方向；• 波前位相矯正✘•╃：透過測量波前位相·╃，採用自適應光學等方法對畸變進行實時矯正·╃，從而得到最佳的效果·╃，如最小的可聚焦光斑···、清晰的成像等；• 光場控制與特殊波前✘•╃：某些實驗需要對鐳射器的波前位相進行人為的設定·╃，如渦旋光···、貝塞爾光束等；這些特殊位相分佈可直接測量；• 特殊鐳射器測試✘•╃：如單發鐳射器 M2 測試等；• 成像系統和光學元件測試✘•╃：透過光源經過鏡頭 / 元件後的波前·╃，直接測量傳遞函式···、像差···、鏡面面型等光學設計中的重要引數效能；• 位相成像✘•╃：如表面起伏測試···、相襯顯微等▩☁◕。

波前感測器 SID4簡介波前感測器用於測量鐳射波前的位相▩☁◕。其測量方式是將鐳射截面光斑分割為若干個小區域（取樣）·╃，每個小區域經過特定的位相元件·╃，將位相資訊轉化成空間資訊並由成像器件探測；成像器件探測到的影象經過反演即可獲得鐳射傳輸截面上位相的分佈▩☁◕。多年以來哈特曼光闌（Shack Hartmann Mask）被廣泛用於波前感測·╃，其取樣元件是微透鏡陣列▩☁◕。鐳射傳輸截面上·╃，在波前傾斜的位置·╃，波矢方向也會發生變化（波矢總是垂直於等相面）·╃，將導致鐳射經過微透鏡後的焦點發生偏移·╃，其偏移量正比於取樣點位相的空間變化率▩☁◕。這種波前感測方式的缺點主要是✘•╃：• 成像器件（CCD）需要最少 16 個畫素才能計算焦點的重心·╃，導致解析度（對位相在空間的取樣率）有限；• 微透鏡有色散·╃，對不同波長的焦距不同·╃，而位相檢測要求嚴格地測量焦點位置·╃，故一臺感測器只適合很小的波長範圍·╃，且不適合寬頻寬鐳射（如超寬脈衝鐳射）；• 對於畸變較大 / 波前曲率較大的光束·╃，焦斑可能躍出成像器件上的限定範圍·╃，導致無法測量；同理·╃，也不適合傾斜波前（斜入射）測量▩☁◕。法國PHASICS公司推出的四波剪下干涉波前感測器·╃，採用二維位相光柵取代微透鏡陣列·╃，利用一階干涉訊號的傅立葉變換復原波前位相·╃，將波前感測的效能提升到新的高度✘•╃：• 高空間解析度·╃，可達 852×720（哈特曼光闌通常 <100×100）；• 高動態範圍可達 500μm·╃，可直接測量球面波·╃，可在光束任意角度···、任意位置測量；• 無色散·╃，響應波長範圍只取決於相機·╃，可測量寬頻光源···、空間啁啾光源；• 對近場強度分佈不敏感；• 單次測量可同時獲得位相和振幅分佈；透過嚴格的數學·╃，單次測量可獲得 M2···、像差係數···、發散角···、焦斑及焦深等*資訊；• 可達 10nm（λ/63 @ 632.8nm）位相精度·╃，1nm 位相解析度▩☁◕。

PHASICS 公司提供 SID4 系列波前感測器·╃，覆蓋紫外 ~ 中遠紅外波段·╃，主要應用包括✘•╃：

 • 鐳射✘•╃：鐳射光束質量測量···、自適應光學···、鐳射系統準直···、氣體與等離子體密度測量；

• 光學計量✘•╃：鏡頭與鏡頭組檢測···、光學系統準直···、表面面型分析···、廣角視場鏡頭檢測···、濾光片及偏振片表徵···、特種波長光學元件表徵···、超表面及超透鏡測量···、外場 / 真空等環境波前計量；

 • 定量相位成像✘•╃：細胞學···、組織學；

 • 微納材料檢測✘•╃：表面拓撲及斷層掃描···、光波導結構及折射率分析···、鐳射損傷閾值測量···、奈米結構與光熱

SID4 用於鐳射測量